R&D Project (2012년도 이후)8 PFC가스 대체용 Fluorocarbon 계열 Precursor를 이용한 식각 공정 개발 과제명 : PFC 가스 대체용 Fluorocarbon 계열 Precursor를 이용한 식각 공정 개발 과제명 (영문) : Etching Processes using Fluorocarbon-based Precursor Replacing PFC Etch Gases 총 수행기간 : 2017. 12. 01 - 2022. 11. 30 지원기관 : 에너지기술관리평가원 연구내용 : 본 연구는 현재 반도체 식각 및 cleaning에 사용되고 있는 PFC (perfluorocarbon) 가스보다 GWP (지구 온난화 지수)가 낮고, 회수 시스템 등의 다양한 방법을 통해 대기 중으로 배출되는 GWP가 높은 공정 부산물이나 분해시 발생한 추가적 대기오염물질을 최소화할 수 있는 대체물질 (Precursor) 연구 및 이를 이.. 2020. 8. 24. 고밀도 플라즈마를 이용한 10nm급 반도체 및 10세대 디스플레이용 핵심원천 기술 개발 과제명 : 고밀도 플라즈마를 이용한 10nm급 반도체 및 10세대 디스플레이용 핵심원천 기술 개발 과제명 (영문) : Development of fundamental technology for 10 nm process semiconductor and 10 G size large area process with high plasma density and VHF condition 총 수행기간 : 2012. 06. 01 - 2016. 05. 31 지원기관 : 한국산업기술평가관리원 연구내용 : 본 연구는 디스플레이용 핵심원천 기술개발을 위한 것이며, 본 연구팀의 최종 목표는 디스플레이 소자용 저온 절연막의 식각 공정 개발이며, 이를 위해 저온 Si을 기반으로, 투명 산화물 IGZO, Mo, SiNx 등의 재료를.. 2020. 8. 24. 이전 1 2 다음