R&D Project (2012년도 이후)/(2012-2016) 지식경제 기술혁신 사업1 고밀도 플라즈마를 이용한 10nm급 반도체 및 10세대 디스플레이용 핵심원천 기술 개발 과제명 : 고밀도 플라즈마를 이용한 10nm급 반도체 및 10세대 디스플레이용 핵심원천 기술 개발 과제명 (영문) : Development of fundamental technology for 10 nm process semiconductor and 10 G size large area process with high plasma density and VHF condition 총 수행기간 : 2012. 06. 01 - 2016. 05. 31 지원기관 : 한국산업기술평가관리원 연구내용 : 본 연구는 디스플레이용 핵심원천 기술개발을 위한 것이며, 본 연구팀의 최종 목표는 디스플레이 소자용 저온 절연막의 식각 공정 개발이며, 이를 위해 저온 Si을 기반으로, 투명 산화물 IGZO, Mo, SiNx 등의 재료를.. 2020. 8. 24. 이전 1 다음