본문 바로가기
Introduction/Facility of laboratory

Spin coating

by 플라즈마응용연구실 2020. 8. 26.

SPIN COATER

 

Spin coating is a procedure used to deposit uniform thin films onto flat substrates. Usually a small amount of coating material is applied on the center of the substrate, which is either spinning at low speed or not spinning at all. The substrate is then rotated at speed up to 10,000 rpm to spread the coating material by centrifugal force. 

Rotation is continued while the fluid spins off the edges of the substrate, until the desired thickness of the film is achieved. The applied solvent is usually volatile, and simultaneously evaporates. The higher the angular speed of spinning, the thinner the film. The thickness of the film also depends on the viscosity and concentration of the solution, and the solvent.

Spin coating is widely used in microfabrication of functional oxide layers on glass or single crystal substrates using sol-gel precursors, where it can be used to create uniform thin films with nanoscale thicknesses.

'Introduction > Facility of laboratory' 카테고리의 다른 글

Lab. Photo  (0) 2020.08.27
과학기술대학 공동기기실험실 (Joint Equipment Room)  (0) 2020.08.26
Nanoimprint lithography  (0) 2020.08.26
Furnace  (0) 2020.08.26
Contact angle goniometer  (0) 2020.08.26