플라즈마 실시간 공정모니터링 센서 및 공정모사기술 개발

• 과제명 : 플라즈마 실시간 공정모니터링 센서 및 공정모사기술 개발
• 과제명 (영문) : Development of plasma realtime process monitoring sensor and process simulation technolo
• 총 수행기간 : 2020. 04. 01 - 2022. 12. 31
• 지원기관 : 한국산업기술평가관리원
• 연구내용 : 플라즈마 실시간 공정모니터링 센서 및 공정모사기술 개발반도체 공정이 미세화 및 고직접화에 따라 고난이도 공정으로 들어서며 플라즈마 변수들을 제어의 중요성이 증가하고 있음. 이에 따라, 국내 기업들이 세계적 수준의 기술력을 확보하기 위해서는 장비에 대한 이해와 공정에 대한 해석 능력을 비용과 시간이 많이 드는 proto-type의 실험 장치를 통해서가 아니라 시간적 손실없이 플라즈마 중요 변수를 진단할 수 있는 전산모사 기술이 결합한 비침투식 공정모니티링 시스템과 공정 프로파일 예측력 향상을 위해 이론적 연구를 통한 공정전산모사기술의 개발 및 원천적 기술 확보가 필요함. 본 연구는 초고주파 웨이퍼 하부 센서 및 비침투식 센서를 이용하여 실시간 반도체 공정모니터링의 데이터를 얻어 전산모사를 통해 플라즈마 물리변수를 이끌어내고, 이러한 변수를 공정전산모사기술과 연동하여 실시간 공정 프로파일을 예측하는 시스템을 구축하는 연구임. 이를 진행하고자 비침투식 측정 장비 V-I 센서, 웨이퍼 하부 초고주파 기술, 및 전산모사기술을 융합하여 이온에너지/선속, 플라즈마 밀도와 같은 물리적인 정보를 얻는 것과 이를 통해 실시간 공정전산모사를 수행하는 것을 최종 목표로 하고 있음.