초미세 패턴 세정을 위한 건식 세정 기술개발

• 과제명 : 초미세 패턴 세정을 위한 건식 세정 기술개발
• 과제명 (영문) : Development of Dry Cleaning Technology for Nanoscale Patterns
• 총 수행기간 : 2015. 09. 01 - 2020. 05. 31
• 지원기관 : 한국산업기술평가관리원
• 연구내용 : 본 연구는 초미세 패턴 세정을 위한 건식 세정 기술 개발에 관한 연구로 Fluorocarbon, Cl2와 HBr 가스 플라즈마로 실리콘 산화막, 실리콘 질화막, 실리콘의 식각 공정 및 식각 후 오염된 표면의 변화를 AES, XPS, EDS 등의 측정을 통해 확인하는 연구임. 도출된 식각 재료 및 가스 종류에 따른 표면 분석데이터와 LP, OES 등을 통해 추출된 플라즈마 특성 데이터를 기반으로 플라즈마를 모델링하여 이를 통해 식각 반응가스 변화에 의한 식각 잔류물 형성 메커니즘을 체계적으로 규명함.