PFC가스 대체용 Fluorocarbon 계열 Precursor를 이용한 식각 공정 개발

• 과제명 : PFC 가스 대체용 Fluorocarbon 계열 Precursor를 이용한 식각 공정 개발
• 과제명 (영문) : Etching Processes using Fluorocarbon-based Precursor Replacing PFC Etch Gases
• 총 수행기간 : 2017. 12. 01 - 2022. 11. 30
• 지원기관 : 에너지기술관리평가원
• 연구내용 : 본 연구는 현재 반도체 식각 및 cleaning에 사용되고 있는 PFC (perfluorocarbon) 가스보다 GWP (지구 온난화 지수)가 낮고, 회수 시스템 등의 다양한 방법을 통해 대기 중으로 배출되는 GWP가 높은 공정 부산물이나 분해시 발생한 추가적 대기오염물질을 최소화할 수 있는 대체물질 (Precursor) 연구 및 이를 이용한 식각 기술개발을 위한 연구를 진행하고 있음. 따라서, 기존의 반도체 및 디스플레이 물질과 공정에 대하여 증명이 된 상태이나 GWP가 높은 기존의 PFC 가스들을 대체하고자 특성이 파악되지 않은 다양한 대체 fluorocarbon precursor 들을 연구하는 것으로 기존 반도체/디스플레이 식각에 사용하는 PFC가스를 대체하고 배기단에서 회수할 수 있도록 액상 fluorocarbon precursor 물질을 선정하고, 이를 이용하여 반도체/디스플레이 물질의 식각 특성에 대한 평가 및 회수방법을 연구하고 이들의 제조기술을 연구함.