D2 플라즈마 진단에 의한 PECVD SiO2 증착의 불균일성 원인 연구.pdf'Publication > Domestic Papers' 카테고리의 다른 글
| ICP Source를 이용한 저온 증착 a-SiNx H 특성 평가 (0) | 2014.09.02 |
|---|---|
| MEMS 공정을 이용한 마이크로 PZT 외팔보 에너지 수확소자의 제작 및 특성 (0) | 2014.09.02 |
| 유도결합형 BCl3_Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각 특성 (0) | 2014.09.02 |
| Ar_Cl2 혼합가스를 이용한 Ba2Ti9O20(BTO) 박막의 유도결합 플라즈마 식각 (0) | 2014.09.02 |
| HBr_Ar_CHF3 혼합가스를 이용한 ZnO 박막의유도결합 플라즈마 식각 (0) | 2014.09.02 |